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在 PCB 多层板制造中,蚀刻是把曝光显影后的“线路图形”从铜箔上“留图去铜”的关键工序。按药液体系划分,主流方案是酸性蚀刻液与碱性蚀刻液两类,二者的化学机理与适用层别差异显著,选型直接决定线宽精度与侧蚀控制。
酸性蚀刻多以氯化铜+盐酸/氯化钠为主,靠 Cu²⁺ 氧化铜箔生成 CuCl₂ 络合物被带走,反应速率快、侧蚀小,适合细线路的外层图形电镀后蚀刻。碱性蚀刻以氨水-氯化铵络合铜氨络离子,蚀刻均匀性好、对干膜/油墨兼容性强,是内层氧化板与图形电镀的主流。
经验上:外层(pattern plating 后)优先酸性,追求高纵深比与少侧蚀;内层(全板电镀/薄铜)多用碱性,保证板面均匀、避免过蚀。如1-3.6 酸性蚀刻液适用于外层精密线路,2-5.2-B 碱性蚀刻液则面向内层氧化板稳定蚀刻。
①线宽/间距要求(细线选酸性);②板厚与铜厚;③现有干膜/油墨兼容性;④废液处理与回收成本;⑤供应商的稳定供货与批次一致性。综合评估后再定体系,比单纯比单价更重要。
